オスミウムコーター
メイワフォーシス製 Neoc-STB
[J103室]
本装置は，非導電性（有機分子，バイオ系試料等）の電子顕微鏡用試料にプラズマCVD方式でオスミウムをコーティングする事により，導電性を持たせ試料観察が行なえるようにする装置です。
従来のスパッタ装置に比べ，以下の特徴があります。
特徴
- 熱や電子線による試料へのダメージが少ない
- 凹凸のある複雑な構造の試料でも表面全域に回りこみよくコーティングできる
- チャージアップしにくい
- 成膜の均一性が良い（アモルファス）
- 昇華筒で昇華させた四酸化オスミウムガスをチャンバー内に導入し、プラズマCVD成膜法により負グロー相領域内で純粋なオスミウム膜を形成させます。
仕様
- 電極：同心円型電極
- 昇華室：着脱可能昇華筒
- チャンバーサイズ：φ150×70mm
- 一度に多数の試料に成膜可能（例：φ10mmの場合で42個まで）
- 生成膜厚：数nm～数100nm
- 到達真空度：6.7×10-2Pa
利用について
- この機器は大学連携NWには登録されていません。利用希望の方は、担当者へお問い合わせください。
担当者
- 技術センター 前田 誠 (E-mail: mmaeda
hiroshima-u.ac.jp)
担当者がホームページを公開しています：「電子顕微鏡のページ」
共同利用機器
